Flexibilitäts-Semiconductive Cfk-Teile kein Öl-Hohlraum

Halbleiter-Cfk-Teile

• Funktionsprinzip

Das Ion-implanter ist eins der kleinen Hochdruckgaspedale mit der größten Anzahl von Anwendungen. Es erhält die erforderlichen Ionen von einer Ionenquelle und erreicht einen Ionenstrahl mit einer Energie mehrerer hundert KV nach Beschleunigung. Es wird für Ionenimplantation von Halbleitermaterialien, von umfangreichen integrierten Schaltungen und von Geräten verwendet. Es wird auch für Oberflächenänderung und Herstellung von Metallmaterialien verwendet. Film etc.

• Verarbeitungsfluß

• Reinigung: Ultraschallreinigung für 10 Minuten. Benutzen Sie reines Wasser, Widerstandskraft ≥2MΩ-cm.
• Trockner: Kein Ölhohlraum, 2 Stunden, Temperatur ≥200℃
• Verpackung: keine bloßen Hände, Halbleitergrad-Isopropylalkoholabwischen, reinen Gradwerkzeuge, unterschiedliches HDPE und Blasenfilm, die, Vakuum heißsiegelt Tasche, Plastikwellpappbasis verpackt
• Aufkleber: Reinraumdruckaufkleber, Doppelschichtaufkleber für inneres und Umverpackung, staubfreies Etikettenpapier des Halbleitergrades

• Anwendung

Ion pflanzte Cfk-Teile sind eine der Halbleiteranwendungen ein. Feinkörniger und Graphit mit hoher Dichte weist starke Korrosionsbeständigkeit unter extrem rauen Arbeitsbedingungen (wie Ionenstrahlnbombardierung oder Plasmastrahl) auf und kann als Schild verwendet werden. Ähnlich Eaton, Axcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, FLUCHT und anderer Ausrüstung.

In der Halbleiterindustrie Graphit existiert von hohem Reinheitsgrad hauptsächlich als Heizsystem, Isolierschale, Elektrode, etc. Der Gebrauch Graphits des von hohem Reinheitsgrad für diese Teile macht auch vollen Gebrauch vom Widerstand von hohem Reinheitsgrad der hohen Temperatur des Graphits. Die Vorteile Graphits des von hohem Reinheitsgrad, wie Korrosionsbeständigkeit, Oxidationswiderstand und elektrische und Wärmeleitfähigkeit, sind an der Halbleiterindustrie angewendet worden, die das Werkstück das längere Leben macht und Abnutzung-verringert und energiesparend. Unsere Firma benutzt deutsche Halbleitergrad-Graphitmaterialien, um die Graphitverbrauchsmaterialien für Ionenimplantation genau herzustellen und stellt Standardteile und kundengebundene Spezifikationen bereit.
Graphit von hohem Reinheitsgrad kann als niedriges Ordnungszahlmaterial entsprechend den Eigenschaften von einheitlichen und Feinpartikeln benutzt werden. Er hat starken Bombardierungswiderstand zu den Ionen und Plasma, starke Korrosionsbeständigkeit, hoher Reinheitsgrad, keine Metallionen, keine Verschmutzung zu den Halbleitern, und die Metallteile, die in der Ionenimplantationsausrüstung hervorgehoben sind, verursachen hohen Verlust, also benutzen das entsprechende Cfk-Teil als der Abschirmdeckel. Teile für Plasma cvd-Plasma vcd susceptor, Elektrodenkammer, Düse, Futter, Spritzenelektrode, movcd susceptor, etc.

• Vorteil

Gute Qualität, kundengebundener Auftrag, schnelle Lieferung